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資料名：
巻： 43 号： 6B ページ： 3928-3933 発行年： 2004年06月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902286661081573
整理番号：04A0543829
超臨界二酸化炭素を用いた深いナノトレンチ/ホール中へのCu及びRu薄膜の堆積
Deposition of Cu and Ru Thin Films in Deep Nanotrenches/Holes Using Supercritical Carbon Dioxide
KONDOH E
(Univ. Yamanashi, Kofu, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 43 号： 6B ページ： 3928-3933 発行年： 2004年06月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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