文献
J-GLOBAL ID:200902287154368077
整理番号:05A0501835
90KにおけるSi(111)の酸化に対する電子衝撃の効果
Electron impact effects on the oxidation of Si(111) at 90 K
著者 (2件):
OHNO Shin-ya
(Univ. Pittsburgh, Pennsylvania)
,
YATES John T Jr
(Univ. Pittsburgh, Pennsylvania)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
23
号:
3
ページ:
475-479
発行年:
2005年05月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)