文献
J-GLOBAL ID:200902288472402094
整理番号:06A0354991
結晶TiO2膜の低温スパッタリング
Low-temperature sputtering of crystalline TiO2 films
著者 (3件):
MUSIL J.
(Dep. of Physics, Univ. of West Bohemia, Univerzitni 22, 30614 Plzen, CZE)
,
HERMAN D.
(Dep. of Physics, Univ. of West Bohemia, Univerzitni 22, 30614 Plzen, CZE)
,
SICHA J.
(Dep. of Physics, Univ. of West Bohemia, Univerzitni 22, 30614 Plzen, CZE)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
24
号:
3
ページ:
521-528
発行年:
2006年05月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)