文献
J-GLOBAL ID:200902289493644655
整理番号:06A0981082
過冷却する時に液体けい素中で四面体構造がどのように挙動するか?
How Does Tetrahedral Structure Grow in Liquid Silicon upon Supercooling?
著者 (1件):
MORISHITA Tetsuya
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki, JPN)
資料名:
Physical Review Letters
(Physical Review Letters)
巻:
97
号:
16
ページ:
165502.1-165502.4
発行年:
2006年10月20日
JST資料番号:
H0070A
ISSN:
0031-9007
CODEN:
PRLTAO
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)