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著者 (5件)：
資料名：
巻： 45 号： 1A ページ： 215-220 発行年： 2006年01月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902290353021729
整理番号：06A0116343
抵抗率の低い単一配向した(111)VN膜の作製とそのCuとSiの間の拡散バリヤとしての応用
Preparation of Single-Oriented (111)VN Film with Low-Resistivity and Its Application as Diffusion Barrier between Cu and Si
YOSHIMOTO Ken-ichi
(Asahikawa National Coll. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
KAIYA Fumihiro
(Asahikawa National Coll. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
SHINKAI Satoko
(Takuma National Coll. of Technol., Kagawa, JPN)
,
SASAKI Katsutaka
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
YANAGISAWA Hideto
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 45 号： 1A ページ： 215-220 発行年： 2006年01月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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