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文献
J-GLOBAL ID:200902290353021729   整理番号:06A0116343

抵抗率の低い単一配向した(111)VN膜の作製とそのCuとSiの間の拡散バリヤとしての応用

Preparation of Single-Oriented (111)VN Film with Low-Resistivity and Its Application as Diffusion Barrier between Cu and Si
著者 (5件):
YOSHIMOTO Ken-ichi
(Asahikawa National Coll. of Technol., Hokkaido, JPN)
KAIYA Fumihiro
(Asahikawa National Coll. of Technol., Hokkaido, JPN)
SHINKAI Satoko
(Takuma National Coll. of Technol., Kagawa, JPN)
SASAKI Katsutaka
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
YANAGISAWA Hideto
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)

巻: 45  号: 1A  ページ: 215-220  発行年: 2006年01月15日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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