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著者 (9件)：
資料名：
巻： 83 号： 5 ページ： 1005-1007 発行年： 2003年08月04日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902291016966840
整理番号：03A0547802
第三世代シンクロトロン放射源を用いた高分解能高エネルギーX線光電子分光,及びSi高k絶縁体系へのその応用
High resolution-high energy x-ray photoelectron spectroscopy using third-generation synchrotron radiation source, and its application to Si-high k insulator systems
KOBAYASHI K
(JASRI/SPring-8, Hyogo, JPN)
,
YABASHI M
(JASRI/SPring-8, Hyogo, JPN)
,
TAKATA Y
(RIKEN/SPring-8, Hyogo, JPN)
,
TOKUSHIMA T
(RIKEN/SPring-8, Hyogo, JPN)
,
TAMASAKU K
(RIKEN/SPring-8, Hyogo, JPN)
,
MIWA D
(RIKEN/SPring-8, Hyogo, JPN)
,
NOHIRA H
(Musashi Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
,
SUGITA Y
(Fujitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)
,
NAKATSUKA O
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 83 号： 5 ページ： 1005-1007 発行年： 2003年08月04日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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