文献
J-GLOBAL ID:200902291477005329
整理番号:04A0211779
Ar/H2O中でのパルス放電におけるOHラジカル密度の減衰特性の研究
Study on Decay Characteristics of OH Radical Density in Pulsed Discharge in Ar/H2O
著者 (3件):
TOCHIKUBO F
(Tokyo Metropolitan Univ., Tokyo, JPN)
,
UCHIDA S
(Tokyo Metropolitan Univ., Tokyo, JPN)
,
WATANABE T
(Tokyo Metropolitan Univ., Tokyo, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
43
号:
1
ページ:
315-320
発行年:
2004年01月15日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)