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資料名：
巻： 193 号： 1/3 ページ： 17-21 発行年： 2005年04月01日
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902292441930340
整理番号：05A0252152
プラズマベースイオン注入堆積法によるトレンチターゲットに対するイオン電流分布とTiN堆積
TiN deposition and ion current distribution for trench target by plasma-based ion implantation and deposition
YUKIMURA K
(Doshisha Univ., Kyoto, JPN)
,
MA X
(Harbin Inst. of Technol., Harbin, CHN)
,
IKEHATA T
(Ibaraki Univ., Ibaraki, JPN)
資料名：
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻： 193 号： 1/3 ページ： 17-21 発行年： 2005年04月01日
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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