文献
J-GLOBAL ID:200902293482451097
整理番号:08A0202488
テトラキス(ジメチルアミノ)すずを用いた酸化スズ膜の原子層蒸着
Atomic layer deposition of tin oxide films using tetrakis(dimethylamino) tin
著者 (6件):
ELAM Jeffrey W.
(Argonne National Lab., Argonne, Illinois 60439)
,
BAKER David A.
(Argonne National Lab., Argonne, Illinois 60439)
,
HRYN Alexander J.
(Argonne National Lab., Argonne, Illinois 60439)
,
MARTINSON Alex B. F.
(Argonne National Lab., Argonne, Illinois 60439 and Dep. of Chemistry, Northwestern Univ., Evanston, Illinois 60208)
,
PELLIN Michael J.
(Argonne National Lab., Argonne, Illinois 60439)
,
HUPP Joseph T.
(Dep. of Chemistry, Northwestern Univ., Evanston, Illinois 60208)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
26
号:
2
ページ:
244
発行年:
2008年03月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)