文献
J-GLOBAL ID:200902296014974120
整理番号:06A0073306
rf反応スパッタリングにより作製したTi-Si-N被覆の微細構造及び特性に及ぼすターゲット材料の影響
Influence of Target Material on the Microstructure and Properties of Ti-Si-N Coatings Prepared by r.f.-Reactive Sputtering
著者 (6件):
NOSE Masateru
(Takaoka National Coll., Takaoka, JPN)
,
DEGUCHI Yutaka
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
,
HONBO Eiji
(Toyama Industrial Res. Center, Takaoka, JPN)
,
CHIOU Wen-An.
(Univ. California, CA, USA)
,
MAE Takehiko
(Toyama National Coll. of Technol., Toyama, JPN)
,
NOGI Kiyoshi
(Osaka Univ., Ibaraki, JPN)
資料名:
Materials Transactions
(Materials Transactions)
巻:
46
号:
8
ページ:
1911-1917
発行年:
2005年08月20日
JST資料番号:
G0668A
ISSN:
1345-9678
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)