文献
J-GLOBAL ID:200902296617015127
整理番号:09A0796926
実験室規模の面内X線回折による擬hcp薄膜中積層欠陥の半定量的評価
Semi-quantitative evaluation of stacking faults in pseudo-hcp thin films by laboratory-scale in-plane x-ray diffraction
著者 (4件):
SAITO Shin
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
HASHIMOTO Atsushi
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
HASEGAWA Daiji
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
TAKAHASHI Migaku
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名:
Journal of Physics. D. Applied Physics
(Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻:
42
号:
14
ページ:
145007,1-7
発行年:
2009年07月21日
JST資料番号:
B0092B
ISSN:
0022-3727
CODEN:
JPAPBE
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)