文献
J-GLOBAL ID:200902298274413353
整理番号:04A0570481
極薄ゲート絶縁膜における負バイアス温度不安定性とその回復現象
Negative Bias Temperature Instability (NBTI) in Ultra-thin Gate Oxide
著者 (2件):
三谷祐一郎
(東芝 研究開発セ)
,
佐竹秀喜
(東芝 研究開発セ)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
104
号:
135(SDM2004 47-59)
ページ:
25-30
発行年:
2004年06月22日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)