文献
J-GLOBAL ID:200902298338672471
整理番号:04A0365141
電界放出走査型及び透過型電子顕微鏡を用いたタングステンの電子誘起ナノ堆積
Electron induced nanodeposition of tungsten using field emission scanning and transmission electron microscopes
著者 (4件):
SHIMOJO M
(National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN)
,
MITSUISHI K
(National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN)
,
TAMEIKE A
(National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN)
,
FURUYA K
(National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
22
号:
2
ページ:
742-746
発行年:
2004年03月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)