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著者 (11件)：
資料名：
巻： 106 号： 108(SDM2006 42-64) ページ： 107-111 発行年： 2006年06月14日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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文献
J-GLOBAL ID：200902298754784130
整理番号：06A0590490
還元雰囲気下でのゲート電極形成プロセスによるHfO2膜の初期絶縁破壊
Initial Breakdown of HfO2 by Formation Process of Gate Electrode in Reduction Atmosphere
水林亘
(半導体MIRAIプロジェクト)
,
小川有人
(半導体MIRAIプロジェクト)
,
生田目俊秀
(半導体MIRAIプロジェクト)
,
佐竹秀喜
(半導体MIRAIプロジェクト)
,
鳥海明
(半導体MIRAIプロジェクト)
,
鳥海明
(産業技術総合研 次世代半導体研究セ)
,
水林亘
(産業技術総合研 次世代半導体研究セ)
,
小川有人
(超先端電子技術開発機構)
,
生田目俊秀
(超先端電子技術開発機構)
,
佐竹秀喜
(超先端電子技術開発機構)
,
鳥海明
(東大 工)
資料名：
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 106 号： 108(SDM2006 42-64) ページ： 107-111 発行年： 2006年06月14日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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