文献
J-GLOBAL ID:200902299534143785
整理番号:05A0639387
低圧O2ガス中での中性クラスター堆積によって形成された発光性Si薄膜
Light-emitting Si films formed by neutral cluster deposition in a thin O2 gas
著者 (5件):
HONDA Y.
(Dep. of Physics, Meisei Univ., Hino, Tokyo 191-8506, JPN)
,
TAKEI M.
(Dep. of Physics, Meisei Univ., Hino, Tokyo 191-8506, JPN)
,
OHNO H.
(Dep. of Physics, Tokyo National Coll. of Technol., Hachiouji, Tokyo 193-8610, JPN)
,
SHIDA S.
(Cooperative Res. Center, Iwaki Meisei Univ., Iwaki, Fukushima 970-8551, JPN)
,
GODA K.
(Dep. of Physics, Meisei Univ., Hino, Tokyo 191-8506, JPN)
資料名:
Journal of Luminescence
(Journal of Luminescence)
巻:
113
号:
3-4
ページ:
279-284
発行年:
2005年06月
JST資料番号:
D0731A
ISSN:
0022-2313
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)