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著者 (5件)：
資料名：
巻： 43 号： 6A ページ： 3438-3442 発行年： 2004年06月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902299895483955
整理番号：04A0537682
選択的化学エッチングにF2レーザを使ったシリコーンフィルムの光化学的表面改質
Photochemical Modification of Silicone Films Using F2 Laser for Selective Chemical Etching
OKOSHI M
(National Defense Acad., Yokosuka, JPN)
,
KIMURA T
(Kanto Gakuin Univ., Yokohama, JPN)
,
TAKAO H
(National Defense Acad., Yokosuka, JPN)
,
INOUE N
(National Defense Acad., Yokosuka, JPN)
,
YAMASHITA T
(Kanto Gakuin Univ., Yokohama, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 43 号： 6A ページ： 3438-3442 発行年： 2004年06月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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