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著者 (4件)：
資料名：
巻： 35 号： 9 ページ： 651-653 発行年： 1979年
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201002043880008114
整理番号：80A0076179
レーザ増強電気めっきおよびマスク無しパターン形成
Laser enhanced electroplating and maskless pattern generation.
Von GUTFELD R J
(IBM Thomas J. Watson Research Center, New York)
,
TYNAN E E
(IBM Thomas J. Watson Research Center, New York)
,
MELCHER R L
(IBM Thomas J. Watson Research Center, New York)
,
BLUM S E
(IBM Thomas J. Watson Research Center, New York)
資料名：
Appl Phys Lett
(Applied Physics Letters)
巻： 35 号： 9 ページ： 651-653 発行年： 1979年
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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