文献
J-GLOBAL ID:201002202896965853
整理番号:10A0861537
添加物のないワット浴を用いた超臨界二酸化炭素エマルションによって電着した光輝ニッケル膜
Bright nickel film deposited by supercritical carbon dioxide emulsion using additive-free Watts bath
著者 (5件):
CHANG Tso-fu Mark
(Precision and Intelligence Lab., Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama, Kanagawa, 226-8503, JPN)
,
SONE Masato
(Precision and Intelligence Lab., Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama, Kanagawa, 226-8503, JPN)
,
SHIBATA Akinobu
(Precision and Intelligence Lab., Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama, Kanagawa, 226-8503, JPN)
,
ISHIYAMA Chiemi
(Precision and Intelligence Lab., Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama, Kanagawa, 226-8503, JPN)
,
HIGO Yakichi
(Precision and Intelligence Lab., Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama, Kanagawa, 226-8503, JPN)
資料名:
Electrochimica Acta
(Electrochimica Acta)
巻:
55
号:
22
ページ:
6469-6475
発行年:
2010年09月01日
JST資料番号:
B0535B
ISSN:
0013-4686
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)