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資料名：
巻： 79 号： 3 ページ： 243-247 発行年： 2010年03月10日
JST資料番号： F0252A ISSN： 0369-8009 CODEN： OYBSA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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文献
J-GLOBAL ID：201002221929278363
整理番号：10A0246918
ホットウォールエピタキシー法によるIV-VI族半導体薄膜・超格子の作製とデバイス応用
Device applications of IV-VI semiconductor films and superlattices prepared by hot wall epitaxy
石田明広
(静岡大 工)
資料名：
応用物理
(JSAP International)
巻： 79 号： 3 ページ： 243-247 発行年： 2010年03月10日
JST資料番号： F0252A ISSN： 0369-8009 CODEN： OYBSA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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