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文献
J-GLOBAL ID:201002234388129089   整理番号:10A0581329

高周波数応用に向けた新規な溶液過程によるスピネル型フェライト膜

Spinel ferrite films by a novel solution process for high frequency applications
著者 (6件):
SUBRAMANI A.k.
(Materials and Structures Lab., Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori, Yokohama, JPN)
KONDO K.
(NEC Tokin Corp., 6-7-1, Koriyama, Taihaku-ku, Sendai, Miyagi, 982-8510, JPN)
TADA M.
(Dep. of Physical Electronics, Tokyo Inst. of Technol., 2-12-1, Ookayama Meguro, Tokyo 152-8552, JPN)
ABE M.
(Dep. of Physical Electronics, Tokyo Inst. of Technol., 2-12-1, Ookayama Meguro, Tokyo 152-8552, JPN)
YOSHIMURA M.
(Materials and Structures Lab., Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori, Yokohama, JPN)
MATSUSHITA N.
(Materials and Structures Lab., Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori, Yokohama, JPN)

資料名:
Materials Chemistry and Physics  (Materials Chemistry and Physics)

巻: 123  号:ページ: 16-19  発行年: 2010年09月01日 
JST資料番号: E0934A  ISSN: 0254-0584  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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