文献
J-GLOBAL ID:201002234578854820
整理番号:10A0389948
超高真空における市販水素化物気相エピタクシー及び有機金属化学蒸着基板からの清浄GaN(0001)を得るための表面処理
Surface treatments toward obtaining clean GaN(0001) from commercial hydride vapor phase epitaxy and metal-organic chemical vapor deposition substrates in ultrahigh vacuum
著者 (4件):
HATTORI Azusa N.
(Res. Center for Ultra-Precision Sci. and Technol., Graduate School of Engineering, Osaka Univ., Yamada-oka 2-1 ...)
,
ENDO Katsuyoshi
(Res. Center for Ultra-Precision Sci. and Technol., Graduate School of Engineering, Osaka Univ., Yamada-oka 2-1 ...)
,
HATTORI Ken
(Graduate School of Materials Sci., Nara Inst. of Sci. and Technol., Takayama 8916-5, Ikoma, Nara 630-0192, JPN)
,
DAIMON Hiroshi
(Graduate School of Materials Sci., Nara Inst. of Sci. and Technol., Takayama 8916-5, Ikoma, Nara 630-0192, JPN)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
256
号:
14
ページ:
4745-4756
発行年:
2010年05月01日
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)