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文献
J-GLOBAL ID:201002234578854820   整理番号:10A0389948

超高真空における市販水素化物気相エピタクシー及び有機金属化学蒸着基板からの清浄GaN(0001)を得るための表面処理

Surface treatments toward obtaining clean GaN(0001) from commercial hydride vapor phase epitaxy and metal-organic chemical vapor deposition substrates in ultrahigh vacuum
著者 (4件):
HATTORI Azusa N.
(Res. Center for Ultra-Precision Sci. and Technol., Graduate School of Engineering, Osaka Univ., Yamada-oka 2-1 ...)
ENDO Katsuyoshi
(Res. Center for Ultra-Precision Sci. and Technol., Graduate School of Engineering, Osaka Univ., Yamada-oka 2-1 ...)
HATTORI Ken
(Graduate School of Materials Sci., Nara Inst. of Sci. and Technol., Takayama 8916-5, Ikoma, Nara 630-0192, JPN)
DAIMON Hiroshi
(Graduate School of Materials Sci., Nara Inst. of Sci. and Technol., Takayama 8916-5, Ikoma, Nara 630-0192, JPN)

資料名:
Applied Surface Science  (Applied Surface Science)

巻: 256  号: 14  ページ: 4745-4756  発行年: 2010年05月01日 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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