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文献
J-GLOBAL ID:201002240245990549   整理番号:10A0493229

原子的平坦ScAlMgO4エピタクシー緩衝層の作成と高移動度ZnO膜の低温成長

Fabrication of Atomically Flat ScAlMgO4 Epitaxial Buffer Layer and Low-Temperature Growth of High-Mobility ZnO Films
著者 (11件):
KATASE Takayoshi
(Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN)
NOMURA Kenji
OHTA Hiromichi
OHTA Hiromichi
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
YANAGI Hiroshi
(Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN)
KAMIYA Toshio
(Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN)
KAMIYA Toshio
HIRANO Masahiro
(Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN)
HIRANO Masahiro
HOSONO Hideo
(Tokyo Inst. of Technol., Yokohama, JPN)
HOSONO Hideo

資料名:
Crystal Growth & Design  (Crystal Growth & Design)

巻: 10  号:ページ: 1084-1089  発行年: 2010年03月 
JST資料番号: W1323A  ISSN: 1528-7483  CODEN: CGDEFU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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