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文献
J-GLOBAL ID:201002243368844597   整理番号:10A0949994

アルカリウェットエッチング用レジストの評価と応用

Evaluation and Application of Resist for Alkaline Wet Etching
著者 (4件):
高橋智一
(東北大学大学院工学研究科ナノメカニクス専攻)
巻幡光俊
(東北大学大学院工学研究科ナノメカニクス専攻)
江刺正喜
(東北大学原子分子材料科学高等研究機構)
田中秀治
(東北大学大学院工学研究科ナノメカニクス専攻)

資料名:
電気学会論文誌 E  (IEEJ Transactions on Sensors and Micromachines)

巻: 130  号:ページ: 421-425 (J-STAGE)  発行年: 2010年 
JST資料番号: L3098A  ISSN: 1341-8939  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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