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著者 (10件)：
資料名：
巻： 26 号： 2 ページ： 273-276 (J-STAGE) 発行年： 2010年
JST資料番号： G0673B ISSN： 0910-6340 CODEN： ANSCEN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201002245062121055
整理番号：10A0201211
低温でのUV励起オゾン酸化におけるケイ素基質の最表面温度の評価
Evaluation of Outermost Surface Temperature of Silicon Substrates during UV-Excited Ozone Oxidation at Low Temperature
KAMEDA Naoto
(Meidensha Corp.)
,
KAMEDA Naoto
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST))
,
NISHIGUCHI Tetsuya
(Meidensha Corp.)
,
NISHIGUCHI Tetsuya
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST))
,
MORIKAWA Yoshiki
(Meidensha Corp.)
,
KEKURA Mitsuru
(Meidensha Corp.)
,
NAKAMURA Ken
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST))
,
USHIYAMA Tomoharu
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST))
,
NONAKA Hidehiko
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST))
,
ICHIMURA Shingo
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST))
資料名：
Analytical Sciences
(Analytical Sciences)
巻： 26 号： 2 ページ： 273-276 (J-STAGE) 発行年： 2010年
JST資料番号： G0673B ISSN： 0910-6340 CODEN： ANSCEN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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