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資料名：
巻： 22 号： 9/12 ページ： 932-934 発行年： 2010年05月01日
JST資料番号： T0721A ISSN： 1041-1135 CODEN： IPTLEL 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201002252249124321
整理番号：10A0682361
標準0.18μm CMOSプロセスで製作した正孔注入型および電子注入型シリコンアバランシェフォトダイオード
Hole-Injection-Type and Electron-Injection-Type Silicon Avalanche Photodiodes Fabricated by Standard 0.18-μm CMOS Process
IIYAMA Koichi
(Kanazawa Univ., Kanazawa, JPN)
,
TAKAMATSU Hideki
(Kanazawa Univ., Kanazawa, JPN)
,
MARUYAMA Takeo
(Kanazawa Univ., Kanazawa, JPN)
資料名：
IEEE Photonics Technology Letters
(IEEE Photonics Technology Letters)
巻： 22 号： 9/12 ページ： 932-934 発行年： 2010年05月01日
JST資料番号： T0721A ISSN： 1041-1135 CODEN： IPTLEL 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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