文献
J-GLOBAL ID:201002272995768251
整理番号:10A0066038
Si添加による立方晶窒化ホウ素薄膜の密着性向上と厚膜化
Increase in Adhesion Strength and Thickness of Cubic Boron Nitride Thin Films by Silicon Addition
著者 (7件):
大堀鉄太郎
(長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター)
,
白幡淳
(長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター)
,
浅見廣樹
(長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター)
,
鈴木常生
(長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター)
,
中山忠親
(長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター)
,
末松久幸
(長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター)
,
新原晧一
(長岡技術科学大学極限エネルギー密度工学研究センター)
資料名:
日本金属学会誌
(Journal of the Japan Institute of Metals and Materials)
巻:
74
号:
1
ページ:
36-41 (J-STAGE)
発行年:
2010年
JST資料番号:
G0023A
ISSN:
0021-4876
CODEN:
NIKGAV
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)