文献
J-GLOBAL ID:201002285107539317
整理番号:10A0654764
MOVPE法により成長させたシリコン基板上GaPの成長初期表面
Surface morphology at initial growth stage of GaP grown on Si substrates using metalorganic vapor phase epitaxy
著者 (5件):
高野泰
(静岡大 工)
,
山田洋毅
(静岡大 工)
,
見崎龍
(静岡大 工)
,
高木達也
(静岡大 工)
,
福家俊郎
(静岡大 工)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
110
号:
29(ED2010 17-32)
ページ:
75-79
発行年:
2010年05月06日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)