文献
J-GLOBAL ID:201002288602621290
整理番号:10A0685236
電子ビームリソグラフィー装置CNSE Vistec VB300の動作と運転と性能
Operation and performance of the CNSE Vistec VB300 electron beam lithography system
著者 (9件):
HARTLEY J. G.
(SUNY at Albany, NY)
,
GROVES T. R.
(SUNY at Albany, NY)
,
BONAM R.
(SUNY at Albany, NY)
,
RAGHUNATHAN A.
(SUNY at Albany, NY)
,
RUAN J.
(SUNY at Albany, NY)
,
MCCLELLAND A.
(Vistec Lithography Inc., NY)
,
CROSLAND N.
(Vistec Lithography Inc., NY)
,
CUNANAN J.
(Vistec Lithography Inc., NY)
,
HAN K.
(Vistec Lithography Inc., NY)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7637
ページ:
76371Y.1-76371Y.10
発行年:
2010年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)