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資料名：
巻： 49 号： 5,Issue 1 ページ： 056702.1-056702.9 発行年： 2010年05月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201002289220879413
整理番号：10A0565085
界面活性剤付加水酸化テトラメチルアンモニウムに基づくシリコンマイクロマシニング:エッチング機構と先端応用
Silicon Micromachining Based on Surfactant-Added Tetramethyl Ammonium Hydroxide: Etching Mechanism and Advanced Applications
PAL Prem
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
GOSALVEZ Miguel A.
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
SATO Kazuo
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 49 号： 5,Issue 1 ページ： 056702.1-056702.9 発行年： 2010年05月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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