文献
J-GLOBAL ID:201002291806623994
整理番号:10A0685196
リソグラフィーパターン形成用の自己集合材料: 概観,現状,将来展望
Self-Assembling Materials for Lithographic Patterning: Overview, Status and Moving Forward
著者 (4件):
HINSBERG William
(IBM Almaden Res. Center, CA)
,
CHENG Joy
(IBM Almaden Res. Center, CA)
,
KIM Ho-Cheol
(IBM Almaden Res. Center, CA)
,
SANDERS Daniel P.
(IBM Almaden Res. Center, CA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7637
ページ:
76370G.1-76370G.11
発行年:
2010年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)