文献
J-GLOBAL ID:201002293668122779
整理番号:10A0107725
パルスDCバランスマグネトロンスパッタリング系によって合成した異なる微細構造を有するCrAlN膜の耐酸化性
Oxidation Resistance of CrAlN Films with Different Microstructures Prepared by Pulsed DC Balanced Magnetron Sputtering System
著者 (5件):
KHAMSEH S.
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Fac. of Engineering, Univ. of Toyama)
,
NOSE M.
(Fac. of Art and Design, Univ. of Toyama)
,
KAWABATA T.
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Fac. of Engineering, Univ. of Toyama)
,
MATSUDA K.
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Fac. of Engineering, Univ. of Toyama)
,
IKENO S.
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Fac. of Engineering, Univ. of Toyama)
資料名:
Materials Transactions
(Materials Transactions)
巻:
51
号:
2
ページ:
271-276 (J-STAGE)
発行年:
2010年
JST資料番号:
G0668A
ISSN:
1345-9678
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)