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著者 (6件)：
資料名：
巻： 22 号： 2 ページ： 024007,1-5 発行年： 2011年02月
JST資料番号： C0354C ISSN： 0957-0233 CODEN： MSTCEP 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201102214585752924
整理番号：11A0535656
酸化ケイ素膜の厚さのシンクロトロン放射X線光電子分光法(SR-XPS)分析による決定
The determination of the thickness of the silicon oxide film by synchrotron radiation x-ray photoelectron spectroscopy (SR-XPS) analysis
IMAMURA M
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
IMAMURA M
(Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN)
,
MATSUBAYASHI N
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
FAN J
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
KOJIMA I
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
SASAKI M
(Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN)
資料名：
Measurement Science and Technology
(Measurement Science and Technology)
巻： 22 号： 2 ページ： 024007,1-5 発行年： 2011年02月
JST資料番号： C0354C ISSN： 0957-0233 CODEN： MSTCEP 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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