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著者 (19件)：
資料名：
巻： 7972 号： Pt.1 ページ： 797217.1-797217.6 発行年： 2011年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201102217012768000
整理番号：11A1249945
61nm自由電子レーザの使用による化学増幅極端紫外線レジストの反応機構に関する基本研究
Fundamental Study on Reaction Mechanisms in Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists by Using 61nm Free-Electron Laser
OKAMOTO Kazumasa
(Hokkaido Univ., Hokkaido, JPN)
,
OKAMOTO Kazumasa
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
KOZAWA Takahiro
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
KOZAWA Takahiro
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
HATSUI Takaki
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
TAJIMA Yasuharu
(Hokkaido Univ., Hokkaido, JPN)
,
TAJIMA Yasuharu
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
OIKAWA Keita
(Hokkaido Univ., Hokkaido, JPN)
,
NAGASONO Mitsuru
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
KAMESHIMA Takashi
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
TOGASHI Tadashi
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
TOGASHI Tadashi
(JASRI, Hyogo, JPN)
,
TONO Kensuke
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
YABASHI Makina
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
KIMURA Hiroaki
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
KIMURA Hiroaki
(JASRI, Hyogo, JPN)
,
SENBA Yasunori
(JASRI, Hyogo, JPN)
,
OHASHI Haruhiko
(RIKEN, Hyogo, JPN)
,
SUMIYOSHI Takashi
(Hokkaido Univ., Hokkaido, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 7972 号： Pt.1 ページ： 797217.1-797217.6 発行年： 2011年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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