文献
J-GLOBAL ID:201102223510561464
整理番号:11A0825831
CNx膜の硬さに及ぼす成膜時基板温度・窒素イオンビーム加速電圧・成膜速度の影響
The Effect of Substrate Temperature, Nitrogen Ionbeam Acceleration Voltage, and Deposition Rate on Hardness of Carbon Nitride Coating
著者 (4件):
野老山貴行
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
齋藤諒介
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
梅原徳次
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
不破良雄
(トヨタ自動車)
資料名:
日本機械学会論文集 C編(Web)
(Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers. Series C (Web))
巻:
77
号:
775
ページ:
624-630 (WEB ONLY)
発行年:
2011年
JST資料番号:
U0184A
ISSN:
1884-8354
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)