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資料名：
巻： 99 号： 11 ページ： 112110 発行年： 2011年09月12日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201102227971117758
整理番号：11A1514605
有機金属化学蒸着における新奇な同時ドーピング法による高濃度正孔キャリアの実現
High hole carrier concentration realized by alternative co-doping technique in metal organic chemical vapor deposition
AOYAGI Yoshinobu
(Ritsumeikan Univ., Ritsumeikan Global Innovation Res. Organization, 1-1-1, Noji-Higashi, Kusatsu, Shiga 525-8577, JPN)
,
TAKEUCHI Misaichi
(Ritsumeikan Univ., Ritsumeikan Global Innovation Res. Organization, 1-1-1, Noji-Higashi, Kusatsu, Shiga 525-8577, JPN)
,
IWAI Sohachi
(Riken Inst., 2-1, Hirosawa, Wako-shi, Saitama 561-0190, JPN)
,
HIRAYAMA Hideki
(Riken Inst., 2-1, Hirosawa, Wako-shi, Saitama 561-0190, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 99 号： 11 ページ： 112110 発行年： 2011年09月12日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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