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文献
J-GLOBAL ID:201102243694473334   整理番号:11A1514331

ZnO低温ホモエピタキシーの成長機構

Growth mechanism of ZnO low-temperature homoepitaxy
著者 (7件):
PARK S. H.
(Center for Interdisciplinary Res., Tohoku Univ., Aoba 6-3, Aramaki, Aobak-ku, Sendai 980-8578, JPN)
MINEGISHI T.
(Center for Interdisciplinary Res., Tohoku Univ., Aoba 6-3, Aramaki, Aobak-ku, Sendai 980-8578, JPN)
LEE H. J.
(Center for Interdisciplinary Res., Tohoku Univ., Aoba 6-3, Aramaki, Aobak-ku, Sendai 980-8578, JPN)
OH D. C.
(Center for Optoelectronic Materials and Devices, Dep. of Defense Sci. and Technol., Hoseo Univ., 165 Sechul-ri ...)
KO H. J.
(Photonics Device Team, Korea Photonics Technol. Inst., 971-35 Wolchul-dong, Buk-gu, Gwangju, 500-779, KOR)
CHANG J. H.
(Center for Interdisciplinary Res., Tohoku Univ., Aoba 6-3, Aramaki, Aobak-ku, Sendai 980-8578, JPN)
YAO T.
(Center for Interdisciplinary Res., Tohoku Univ., Aoba 6-3, Aramaki, Aobak-ku, Sendai 980-8578, JPN)

資料名:
Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)

巻: 110  号:ページ: 053520  発行年: 2011年09月01日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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