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文献
J-GLOBAL ID:201102251357083209   整理番号:11A1238361

RF反応性不平衡マグネトロンスパッタリングによるCr(N,O)薄膜の作製

Preparation of Cr(N,O) thin films by RF reactive unbalanced magnetron sputtering
著者 (8件):
SHIRAHATA Jun
OHORI Tetsutaro
ASAMI Hiroki
SUZUKI Tsuneo
NAKAYAMA Tadachika
SUEMATSU Hisayuki
NAKAJIMA Yoshiharu
NIIHARA Koichi

資料名:
Thin Solid Films  (Thin Solid Films)

巻: 519  号: 11  ページ: 3497-3500  発行年: 2011年03月31日 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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