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資料名：
巻： 4 号： 5 ページ： 056202.1-056202.2 発行年： 2011年05月25日
JST資料番号： F0599C ISSN： 1882-0778 CODEN： APEPC4 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201102263178279808
整理番号：11A0980881
ジボランによるシランプラズマ化学蒸着の加速機構のab initio分子軌道研究
Ab Initio Molecular Orbital Study on Acceleration Mechanism of Silane Plasma Chemical Vapor Deposition by Diborane
SATO Kota
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
,
KUBOTA Yasuyo
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
資料名：
Applied Physics Express
(Applied Physics Express)
巻： 4 号： 5 ページ： 056202.1-056202.2 発行年： 2011年05月25日
JST資料番号： F0599C ISSN： 1882-0778 CODEN： APEPC4 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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