文献
J-GLOBAL ID:201102270151732868
整理番号:11A1393806
NiO抵抗ランダムアクセスメモリーにおける「伝導スポット」の観測
The Observation of “Conduction Spot” on NiO Resistance Random Access Memory
著者 (9件):
KONDO Hirofumi
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
ARITA Masashi
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
FUJII Takashi
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
KAJI Hiromichi
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
MONIWA Masahiro
(Semiconductor Technol. Academic Res. Center, Yokohama, JPN)
,
YAMAGUCHI Takeshi
(Semiconductor Technol. Academic Res. Center, Yokohama, JPN)
,
FUJIWARA Ichiro
(Semiconductor Technol. Academic Res. Center, Yokohama, JPN)
,
YOSHIMARU Masaki
(Semiconductor Technol. Academic Res. Center, Yokohama, JPN)
,
TAKAHASHI Yasuo
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
50
号:
8,Issue 1
ページ:
081101.1-081101.6
発行年:
2011年08月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)