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著者 (3件)：
資料名：
巻： 32 号： 2 ページ： 325-332 発行年： 2012年04月
JST資料番号： H0836A ISSN： 0272-4324 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201202227429683183
整理番号：12A0546283
大気圧で動作するマイクロ放電プラズマを用いたマスクレスエッチングシステムのための最適ガス供給の研究
Studies on Optimal Gas Supply For a Maskless Etching System with Micro- Discharge Plasma Operated at Atmospheric Pressure
HAMADA Toshiyuki
(Miyazaki Prefectural Government Public Enterprise Bureau, Electricity Div., 1-2-2 Asahi, 880-0803, Miyazaki, JPN)
,
ARIMURA Takuya
(Univ. of Miyazaki, Dep. of Electrical and Electronic Engineering, 1-1 Gakuenkibanadai-Nishi, 889-2192, Miyazaki, JPN)
,
SAKODA Tatsuya
(Univ. of Miyazaki, Dep. of Electrical and Electronic Engineering, 1-1 Gakuenkibanadai-Nishi, 889-2192, Miyazaki, JPN)
資料名：
Plasma Chemistry and Plasma Processing
(Plasma Chemistry and Plasma Processing)
巻： 32 号： 2 ページ： 325-332 発行年： 2012年04月
JST資料番号： H0836A ISSN： 0272-4324 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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