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J-GLOBAL ID：201202230346497567 整理番号：12A0777791

テトラキス(エチルメチルアミノ)ハフニウム(TEMAH),オゾン,及び水蒸気によるHfO₂の原子層堆積における基本化学反応のIR研究

IR study of fundamental chemical reactions in atomic layer deposition of HfO₂ with tetrakis(ethylmethylamino)hafnium (TEMAH), ozone, and water vapor

著者 (8件)：

HIROSE F.

(Graduate school of Sci. and Engineering, Yamagata Univ. 4-3-16 Joonan, Yonezawa 992-8510, JPN)

,

KINOSHITA Y.

(Graduate school of Sci. and Engineering, Yamagata Univ. 4-3-16 Joonan, Yonezawa 992-8510, JPN)

,

KANOMATA K.

(Graduate school of Sci. and Engineering, Yamagata Univ. 4-3-16 Joonan, Yonezawa 992-8510, JPN)

,

MOMIYAMA K.

(Graduate school of Sci. and Engineering, Yamagata Univ. 4-3-16 Joonan, Yonezawa 992-8510, JPN)

,

KUBOTA S.

(Graduate school of Sci. and Engineering, Yamagata Univ. 4-3-16 Joonan, Yonezawa 992-8510, JPN)

,

HIRAHARA K.

(Graduate school of Sci. and Engineering, Yamagata Univ. 4-3-16 Joonan, Yonezawa 992-8510, JPN)

,

KIMURA Y.

(RIEC, Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Sendai 980-8577, JPN)

,

NIWANO M.

(RIEC, Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Sendai 980-8577, JPN)

資料名：

Applied Surface Science (Applied Surface Science)

巻： 258 号： 19 ページ： 7726-7731 発行年： 2012年07月15日
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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