文献
J-GLOBAL ID:201202233631346326
整理番号:12A1006007
プラズマ支援CVDによるSi(111)上の3C-SiC膜の低温成長に対するプロパンの効果
Effects of Propane on Low Temperature Growth of 3C-SiC Films on Si(111) by Plasma Assisted CVD
著者 (2件):
SHIMIZU Hideki
(Aichi Univ. Education, Aichi, JPN)
,
WATANABE Takashi
(Aichi Univ. Education, Aichi, JPN)
資料名:
Materials Science Forum
(Materials Science Forum)
巻:
717/720
号:
Pt.1
ページ:
181-184
発行年:
2012年
JST資料番号:
D0716B
ISSN:
0255-5476
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
スイス (CHE)
言語:
英語 (EN)