文献
J-GLOBAL ID:201202242957578978
整理番号:12A1092640
反応性単分子層による熱ナノインプリントリソグラフィー
Reactive-monolayer-assisted Thermal Nanoimprint Lithography
著者 (3件):
KUBO Shoichi
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
NAKAGAWA Masaru
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
NAKAGAWA Masaru
(JST-CREST, Chiyoda, JPN)
資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻:
25
号:
2
ページ:
189-196
発行年:
2012年
JST資料番号:
L0202A
ISSN:
0914-9244
CODEN:
JSTEEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)