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著者 (22件)：
資料名：
巻： 8352 ページ： 83520V.1-83520V.14 発行年： 2012年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：201202252461580692
整理番号：12A1439731
EUVマスクとEUVL露光ウエハの光学的検査感度最適化に向けて
Towards the Optical Inspection Sensitivity Optimization of EUV Masks and EUVL-Exposed Wafers
OKOROANYANWU U.
(GLOBALFOUNDRIES, Dresden, DEU)
,
OKOROANYANWU U.
(AMTC)
,
HEUMANN J.
(Advanced Mask Technol. Center(AMTC) GmbH & Co. KG, Dresden, DEU)
,
ZHU X.
(GLOBALFOUNDRIES, NY, USA)
,
CLIFFORD C.H.
(GLOBALFOUNDRIES, CA, USA)
,
JIANG F.
(GLOBALFOUNDRIES, CA, USA)
,
MANGAT P.
(GLOBALFOUNDRIES, NY, USA)
,
GHASKADAVI R.
(KLA-Tencor, NY, USA)
,
MOHN E.
(Advanced Mask Technol. Center(AMTC) GmbH & Co. KG, Dresden, DEU)
,
MOSES R.
(Advanced Mask Technol. Center(AMTC) GmbH & Co. KG, Dresden, DEU)
,
WOOD O.
(GLOBALFOUNDRIES, NY, USA)
,
ROLFF H.
(Advanced Mask Technol. Center(AMTC) GmbH & Co. KG, Dresden, DEU)
,
SCHEDEL T.
(Advanced Mask Technol. Center(AMTC) GmbH & Co. KG, Dresden, DEU)
,
CANTRELL R.
(Advanced Mask Technol. Center(AMTC) GmbH & Co. KG, Dresden, DEU)
,
NESLADEK P.
(Advanced Mask Technol. Center(AMTC) GmbH & Co. KG, Dresden, DEU)
,
LICAUSI N.
(GLOBALFOUNDRIES, NY, USA)
,
CAI X.
(GLOBALFOUNDRIES, NY, USA)
,
TAYLOR W.
(GLOBALFOUNDRIES, NY, USA)
,
SCHEFSKE J.
(GLOBALFOUNDRIES, NY, USA)
,
SCHEFSKE J.
(IMEC)
,
BENDER M.
(Advanced Mask Technol. Center(AMTC) GmbH & Co. KG, Dresden, DEU)
,
SCHMIDT N.
(KLA-Tencor, Dresden, DEU)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 8352 ページ： 83520V.1-83520V.14 発行年： 2012年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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