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文献
J-GLOBAL ID:201202261737588934   整理番号:12A1166671

有機金属化合物を用いたSiC/Geナノドット積層構造の作製

Fabrication of a SiC/Ge-Nanodots Stacked Structure Using Organometallic Compounds
著者 (9件):
姉崎豊
(Nagaoka Univ. of Technol.)
大谷孝史
(Nagaoka Univ. of Technol.)
須藤晴紀
(Nagaoka Univ. of Technol.)
加藤孝弘
(Nagaoka Univ. of Technol.)
加藤有行
(Nagaoka Univ. of Technol.)
末光眞希
(Res. Inst. of Electrical Communication, Tohoku Univ.)
成田克
(Yamagata Univ.)
中澤日出樹
(Hirosaki Univ.)
安井寛治
(Nagaoka Univ. of Technol.)

資料名:
表面科学  (JSSSJ)

巻: 33  号:ページ: 376-381 (J-STAGE)  発行年: 2012年 
JST資料番号: F0940B  ISSN: 0388-5321  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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