文献
J-GLOBAL ID:201202262095153897
整理番号:12A1439348
レジストからSiハードマスク層への酸の拡散
Diffusion of Acid from Resist to Si-hardmask Layer
著者 (6件):
SHIRAI Masamitsu
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
TAKEDA Hiroki
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
HATSUSE Tatsuya
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
OKAMURA Haruyuki
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
WAKAYAMA Hiroyuki
(Nissan Chemical Ind., LTD., Toyama, JPN)
,
NAKAJIMA Makoto
(Nissan Chemical Ind., LTD., Toyama, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8325
ページ:
83251L.1-83251L.6
発行年:
2012年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)