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J-GLOBAL ID：201202262912967052 整理番号：12A1311288

化学浴析出法によるZnS薄膜の作製と評価

Preparation and characterization of ZnS thin films by the chemical bath deposition method

著者 (4件)：

IWASHITA Taisuke

(Dep. of Electrical Engineering, Fac. of Engineering, Tokyo Univ. of Sci. 1-14-6 Kudankita, Chiyoda, Tokyo 102-0073, JPN)

ANDO Shizutoshi

(Dep. of Electrical Engineering, Fac. of Engineering, Tokyo Univ. of Sci. 1-14-6 Kudankita, Chiyoda, Tokyo 102-0073, JPN)

ANDO Shizutoshi

(Res. Inst. for Sci. and Technol., Advanced Device Laboratories (ADL), Tokyo Univ. of Sci., 1-3 Kagurazaka, Shinjuku ...)

ANDO Shizutoshi

(Res. Inst. for Sci. and Technol., Photovoltaic Sci. & Technol. Res. Div., Tokyo Univ. of Sci., 1-3 Kagurazaka ...)

資料名：

Thin Solid Films (Thin Solid Films)

巻： 520 号： 24 ページ： 7076-7082 発行年： 2012年10月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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