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文献
J-GLOBAL ID:201202263033092308   整理番号:12A0268488

粉砕した新しいシリカ含有ジルコニアと低温劣化(LTD)抑制との関連:パイロット研究

The relationship between milling a new silica-doped zirconia and its resistance to low-temperature degradation (LTD): a pilot study
著者 (8件):
NAKAMURA Takashi
(Dep. of Fixed Prosthodontics, Osaka Univ. Graduate School of Dentistry)
USAMI Hirofumi
(Dep. of Fixed Prosthodontics, Osaka Univ. Graduate School of Dentistry)
OHNISHI Hiroshi
(Nikkato Corp.)
NISHIDA Hisataka
(Dep. of Operative Dentistry, Osaka Dental Univ.)
TANG Xuehua
(Dep. of Fixed Prosthodontics, Osaka Univ. Graduate School of Dentistry)
WAKABAYASHI Kazumichi
(Dep. of Fixed Prosthodontics, Osaka Univ. Graduate School of Dentistry)
SEKINO Tohru
(Inst. of Multidisciplinary Res. for Advanced Materials, Tohoku Univ.)
YATANI Hirofumi
(Dep. of Fixed Prosthodontics, Osaka Univ. Graduate School of Dentistry)

資料名:
Dental Materials Journal  (Dental Materials Journal)

巻: 31  号:ページ: 106-112 (J-STAGE)  発行年: 2012年 
JST資料番号: Y0283A  ISSN: 0287-4547  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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