文献
J-GLOBAL ID:201202295554132291
整理番号:12A0834111
O2,H2OおよびH2O+H2O2混合気体において反応性スパッタリングにより調製したZrO2薄膜のイオン伝導率の評価
Evaluation of ion conductivity of ZrO2 thin films prepared by reactive sputtering in O2, H2O, and H2O+H2O2 mixed gas
著者 (5件):
LI Ning
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Kitami Inst. of Technol., Kitami, Hokkaido 090-8507, JPN)
,
ABE Yoshio
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Kitami Inst. of Technol., Kitami, Hokkaido 090-8507, JPN)
,
KAWAMURA Midori
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Kitami Inst. of Technol., Kitami, Hokkaido 090-8507, JPN)
,
KIM Kyung Ho
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Kitami Inst. of Technol., Kitami, Hokkaido 090-8507, JPN)
,
SUZUKI Tsutomu
(Dep. of Biotechnology and Environmental Chemistry, Kitami Inst. of Technol., Kitami, Hokkaido 090-8507, JPN)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
520
号:
16
ページ:
5137-5140
発行年:
2012年06月01日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)