文献
J-GLOBAL ID:201302208050076754
整理番号:13A1864305
高密度プラズマ環境下のガスフロースパッタ法によるカーボン薄膜の作製
Preparation of Carbon Thin Films by Gas Flow Sputtering in High-Density Plasma
著者 (5件):
石井琢馬
(宇都宮大 大学院工学研究科)
,
佐藤祐二
(宇都宮大 大学院工学研究科)
,
渡邊貴晴
(宇都宮大 大学院工学研究科)
,
石井清
(宇都宮大 大学院工学研究科)
,
佐久間洋志
(宇都宮大 大学院工学研究科)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
113
号:
268(CPM2013 93-107)
ページ:
67-71
発行年:
2013年10月17日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)